![低压化学气相淀积设备 [型号:定制]](/d/file/2017/5a9e30b8eceb16c6137dd5d633f470ee.jpg)
仪器名称：低压化学气相淀积设备
仪器型号：定制
仪器类型：半导体集成电路工艺实验设备
应用领域：材料科学
所属单位：河北大学
仪器产地：中国
仪器价值：48万
仪器购买时间：2013-12-13
主要技术指标
1．衬底要求：玻璃15cm×15cm2．腔体本底真空：<6×10-2Pa3．反应腔体电阻丝加热温度为300℃。 4. 抽气速率：从大气状态下开始抽气在30分钟内，系统真空度≤ 5×10-2Pa。
主要功能/应用范围
该设备能在低压的条件下生长出高透过率、高电子传导性和高雾度的氧化锌薄膜。
服务内容
暂无
服务的典型成果
暂无
对外开放共享规定
不共享
参考收费标准
暂无
共享仪器单位信息仪器联系人：
朱红兵
联系电话：
18632210074
电子邮箱：
传 真：