![HFCVD金刚石膜沉积 [型号:HFCAD-80]](/d/file/2017/fde0849826e38ba1d935816db008652a.jpg)
仪器名称：HFCVD金刚石膜沉积
仪器型号：HFCAD-80
仪器类型：半导体集成电路工艺实验设备
应用领域：电子与通信技术材料科学
所属单位：河北工业大学
仪器产地：中国
仪器价值：33.2万
仪器购买时间：2011-01-01
主要技术指标
80/5Pa以下真空度
主要功能/应用范围
可在晶圆表面镀膜。
服务内容
具体请跟机主老师联系
服务的典型成果
为校内外师生提供测试服务
对外开放共享规定
只提供送样测试服务
参考收费标准
具体请跟机主老师联系
共享仪器单位信息仪器联系人：
高宝红
联系电话：
022-60201604
电子邮箱：
传 真：
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