![等离子增强化学气相沉积系统 [型号:三室阵列式]](/d/file/2017/b973fe80836c62519a00b49d848658d3.jpg)
仪器名称：等离子增强化学气相沉积系统
仪器型号：三室阵列式
仪器类型：半导体集成电路工艺实验设备
应用领域：电子与通信技术
所属单位：河北大学
仪器产地：中国
仪器价值：57.86万
仪器购买时间：2012-12-13
主要技术指标
三室阵列式，室温-350℃，常压-10-4Pa
主要功能/应用范围
沉积硅薄膜
服务内容
沉积硅薄膜1.对使用者进行仪器设备的使用方法、注意事项等的培训，使用者必须达到熟练使用的水平方能开放独立使用；2.可协助使用者进行实验；3.对仪器设备进行日常维护维修，保证仪器的正常运行。
服务的典型成果
无
对外开放共享规定
专人负责设备使用，不能由外人操作
参考收费标准
自测 450元/小时委托 600元/小时
共享仪器单位信息仪器联系人：
马蕾
联系电话：
0312-5079368
电子邮箱：
传 真：