磁控溅射系统（JGP-560）

主要技术指标

JGP-560，真空室尺寸：梨型真空室，真空系统配置：分子泵、机械泵、闸板阀，极限压力：≤2.0x10-5Pa (经烘烤除气后) ，恢复真空时间：40分钟可达到6.6x10-4Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)，样品尺寸：Ф65mm，可放置4片，加热基片加热最高温度：500°C±1°C 。

主要功能/应用范围

用于单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备，广泛的应用于高等院校、科研院所的薄膜材料科研。

服务内容

用于开展ZnO等薄膜的实验制备

服务的典型成果

无

对外开放共享规定

科研合作共享

参考收费标准

不收费

仪器联系人：

王延峰

联系电话：

0313-4029189

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传　　真：