![超高真空磁控溅镀膜与离子束清洗系统 [型号:*]](/d/file/2017/46c3cd34a082d88c96a8c54c3cedc508.jpg)
仪器名称：超高真空磁控溅镀膜与离子束清洗系统
仪器型号：*
仪器类型：其他仪器
应用领域：物理学
所属单位：河北师范大学
仪器产地：中国
仪器价值：46万
仪器购买时间：2008-12-31
主要技术指标
真空10-5Pa，多靶
主要功能/应用范围
射频、磁控溅射制备金属及氧化物薄膜材料
服务内容
射频、磁控溅射制备金属及氧化物薄膜材料
服务的典型成果
Li-qian Qi, Ru-shuai Han, Li-hu Liu* and Hui-yuan Sun*，Preparation of porous HfO2 films by DC-sputtering and studies on their magnetic properties，Ceramics International
对外开放共享规定
按照学校有关规定执行
参考收费标准
按照学校有关规定执行
共享仪器单位信息仪器联系人：
刘力虎
联系电话：
0311-80787300
电子邮箱：
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