高能冲击磁控溅射等离子体发生与成膜控制平台（HiPIMS）
时间：2018-01-16 11:46:31来源：网络
| 仪器名称 |
高能冲击磁控溅射等离子体发生与成膜控制平台
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仪器型号 |
HiPIMS
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| 所属单位 |
力学研究所
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所属区域中心 |
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| 制造商名称 |
研制
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国别 |
中国
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| 购置时间 |
2014/10/16
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放置地点 |
2号楼213
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| 预约审核人 |
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操作人员 |
李光
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| 仪器工作状态 |
正常
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预约形式 |
可不预约
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| 预约类型 |
时间预约
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| 仪器大类 |
工艺实验设备
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仪器中类 |
工艺实验设备
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仪器小类 |
材料工艺实验设备
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| 仪器主要功能及描述 |
高能冲击磁控溅射（HiPIMS）等离子体发生与成膜控制平台，将国际上新出现HiPIMS与等离子体基离子注入沉积方法相结合，采用前者获得淹没性的高离化率金属等离子体，通过溅射脉冲和高压脉冲的波形匹配实现参与成膜粒子能量可控，形成一种新颖的成膜过程控制技术。利用HiPIMS技术，金属Ti的离化率可达80%。粒子能量超过100eV，通过调整高、低磁控电压脉冲的脉宽比例，HiPIMS耦合电源还可实现对离化率的有效调控。
该平台可开展多元及复杂体系涂层表面改性的应用研究。1）利用高能冲击磁控源，可以实现众多金属（含碳）元素的离子注入，可以在高精尖零件的摩擦磨损、表面防腐蚀等领域开展研究。2）针对目前我国严重依赖进口高端镀膜刀具，可开展TiN、TiAlSiN和TiCN等高质量薄膜的表面改性工业化应用研究。3）可在等离子复合表面改性方法、材料的复合表面改性等领域开展大量的研究，针对表面改性膜层服役性能问题，开展膜基界面领域的研究工作。
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| 备注 |
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仪器收费信息
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样品分类 |
分析项目 |
前处理标准名称 |
分析项目标准名称 |
对外服务价格 |
