| 仪器名称 | ICP刻蚀机 | 仪器型号 | SYSTEM100 ICP380 |
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| 所属单位 | 中国科学技术大学 | 所属区域中心 | 合肥战略能源和物质科学大型仪器区域中心 | ||
| 制造商名称 | Oxford instruments Plasma Technology | 国别 | 英国 | ||
| 购置时间 | 2013/05/27 | 放置地点 | 科大西区特种楼群楼微纳米加工实验室 | ||
| 预约审核人 | 操作人员 | 荣皓,微纳中心 | |||
| 仪器工作状态 | 正常 | 预约形式 | 必须预约 | ||
| 预约类型 | 时间预约 | ||||
| 仪器大类 | 工艺实验设备 | 仪器中类 | 工艺实验设备 | 仪器小类 | 加工工艺实验设备 |
| 仪器主要功能及描述 | 通过电感耦合等离子体辉光放电分解反应气体，对样品表面进行物理轰击以及化学反应生成挥发性气体，达到刻蚀目的。主要用于硅（高深宽比）、氧化硅、SOI、SiC等微纳米结构刻蚀。 | ||||
| 备注 | |||||
仪器收费信息
| 序号 | 样品分类 | 分析项目 | 前处理标准名称 | 分析项目标准名称 | 对外服务价格 |
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| 1 | 高深宽比的硅微结构加工 | 硅深刻蚀系统 | 用户指定 | 用户指定 | 900 |