亚微米紫外曝光机（MA/BA6）
时间：2018-01-16 11:46:44来源：网络
| 仪器名称 |
亚微米紫外曝光机
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仪器型号 |
MA/BA6
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| 所属单位 |
中国科学技术大学
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所属区域中心 |
合肥战略能源和物质科学大型仪器区域中心
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| 制造商名称 |
SUSS MicroTec Lithography GmbH
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国别 |
德国
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| 购置时间 |
2014/04/02
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放置地点 |
科大西区特种实验楼群楼微纳米加工实验室
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| 预约审核人 |
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操作人员 |
微纳中心,荣皓
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| 仪器工作状态 |
正常
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预约形式 |
必须预约
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| 预约类型 |
时间预约
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| 仪器大类 |
工艺实验设备
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仪器中类 |
工艺实验设备
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仪器小类 |
加工工艺实验设备
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| 仪器主要功能及描述 |
SUSS MA/BA6是设计用于实验室研发，小批量生产的高分辨率光刻系统。该光刻机供了最好的基片适应性，可夹持不同厚度不同形状的晶片。同时标准尺寸基片最大直径为150mm。处理最大厚度可达6mm的晶片。SUSS MA/BA6提供了各种接触式曝光程序。X-和Y-向位移精度在0.1μm以下。使用400nm的宽带光源曝光波长在真空模式下分辨率为0.8μm。同时可以选用不同的对准装置，分离视场顶部对准显微镜或视频显微镜，BSA底面对准显微镜对准方式。是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。
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| 备注 |
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仪器收费信息
| 序号 |
样品分类 |
分析项目 |
前处理标准名称 |
分析项目标准名称 |
对外服务价格 |
| 1 |
片状、薄膜 |
刻蚀薄膜 |
用户指定 |
用户指定 |
800 |
