| 仪器名称 | 蒸发HF刻蚀系统 | 仪器型号 | UETCH-SYS |
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| 所属单位 | 中国科学技术大学 | 所属区域中心 | 合肥战略能源和物质科学大型仪器区域中心 | ||
| 制造商名称 | SPTS Technologies | 国别 | 美国 | ||
| 购置时间 | 2015/11/12 | 放置地点 | 科大西区特种楼群楼微纳米加工实验室 | ||
| 预约审核人 | 操作人员 | 荣皓,微纳中心 | |||
| 仪器工作状态 | 正常 | 预约形式 | 必须预约 | ||
| 预约类型 | 时间预约 | ||||
| 仪器大类 | 工艺实验设备 | 仪器中类 | 工艺实验设备 | 仪器小类 | 加工工艺实验设备 |
| 仪器主要功能及描述 | 通过无水乙醇的催化作用，HF气体与SiO2反应生成可挥发的产物SiF4和气态H2O，并通过真空排风抽走。整个反应过程不生成液态水，避免了液体对悬空微纳结构的粘连，从而可以成功释放悬空的微纳米结构。主要用于悬臂梁及其他悬空微纳米结构和SiO2牺牲层的释放刻蚀。 | ||||
| 备注 | |||||
仪器收费信息
| 序号 | 样品分类 | 分析项目 | 前处理标准名称 | 分析项目标准名称 | 对外服务价格 |
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| 1 | 片状、薄膜 | 牺牲层释放 | 用户指定 | 用户指定 | 600 |